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  • 工业超纯水系统

    本系统针对精密电子工业、半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路、科研等对超纯水的需要。采用全膜法处理设计,根据使用单位对水质的不同要求,采用“盘滤 + 超滤 + 反渗透(I)+ 反渗透(II)+CEDI + 抛光混床”等超纯水制备工艺流程,出水水质稳定可靠。

    主要技术指标:电导率:1~5 μs/cm;污染物去除率:一价和多价离子>99.5%、可溶性有机物>99%、颗粒>99%、微生物>99%;电阻率: 10MΩ·cm以上;TOC: <10ppb;全硅:<1.0μg/L。
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